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G-25D型高精密单面光刻机(LED)

简介—— 一、 主要用途: 本设备是我公司专门针对各大专院校、企业及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它 主要用于中

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一、 主要用途:

本设备是我公司专门针对各大专院校、企业及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

二、 主要性能指标

1、曝光类型:单面;

2、曝光面积:150×150mm

3、曝光照度不均匀性:≤±3%

4、曝光强度:≤30mw/cm2可调;

5、紫外光束角:≤3˚;

6、紫外光中心波长:365nm

7、紫外光源寿命:≥2万小时;

8、采用电子快门;

9、曝光分辨率:1μm

10、曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;

11、对准范围:XY 调节 ±4mmQ向调节±3°;

12、套刻精度:1μm

13、分离量;050μm可调;

14、曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;

15、找平方式:气浮找平;

16、显微系统:双视场CCD系统,显微镜91X570X连续变倍(物镜1.6X10X连续变倍),双物镜距离可调范围50mm120mm,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;

17、掩模版尺寸:152×152mm

18、基片尺寸: 110×110mm;

19、基片厚度:≤5 mm

20、曝光定时:0999.9秒可调;

21、电源:单相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW

22、洁净空气压力:≥0.4MPa

23、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

24设备所需能源:

主机电源: 220V±10%   50HZ,1KW。

洁净空气≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

25.G-25D型高精密光刻机的组成:

LED紫外曝光头、CCD显微显示系统、对准工作台、电气控制系统构成。


更多关于光刻机的信息可以直接拨打网站上的咨询电话和我们取得联系。

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